双面研磨机,双面抛光机,平面研磨机

平面研磨机新的研发

发布者: 常州玉利光电 / 2021-05-07/ 浏览量:1955

  随之微电子、光电子、激光技术的飞快发展,工业上对材质表面的加工要求越来越高,越来越精密。那么只有不断在研发的道路上前进,才能紧紧跟住社会的脚步,但要求的是,研发的技术要能在其中起到必然的作用。研磨在其中起到的作用是的也是相对的,它在精密、超精密加工中的技术,在很多材料上都比较合适。而且在加工精度上差不多能够达到加工精度的极限,而且在操作上相对于其他机械而言比较简单。

  超精密研磨加工技术,以不改变工件材料的物理特性为前提,是为了获得更好的表面完整性、工件精度与平面度。研磨通常作为抛光加工的前道工序,是为了提高工件的表面精度并在一定程度上降低表面粗糙度,抛光是进一步完善工件的表面精度。研磨是利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的过程。研磨工件表面的尺寸精度、形位精度、研磨工具的寿命及研磨效率等,在很大程度上取决于研磨运动。为使工件表面研磨均匀,从运动学角度归纳出如下的平面研磨更佳运动学条件:

  一·工件相对研具作平面运动,应保证工件被研磨表面上各点相对研具均有相同或相近的研磨轨迹;

  二·研磨运动是由工件与研具之间的相对运动实现的,工件表面上各点的研磨运动速度应尽可能相同;

  三·研磨运动方向应不断变化,研磨纹路交错多变,以利于工件加工表面粗糙度的降低,但应尽量避免工件被研磨表面上各点相对研具的研磨轨迹曲率变化过大;

  四·研具或抛光盘工作表面的形状精度会反映到工件表面上,所以工件的运动轨迹应遍及整个研具表面并且分布均匀,以利于研具的均匀磨损;

  五·工件相对研具在被研磨材料的去除方向上具有运动自由度,这样可以避免因研磨机械的导向精度不高而引起误差。

  研磨轨迹的均匀性的提高有利于工件平面度的改善,但均匀的研磨轨迹并不足以保证工件被加工表面均匀的材料去除,原因是,同一轨迹上的各点可能有不同的磨粒。结合现有平面研磨机,根据研磨更佳运动学条件,创造性的研制了新型行星轮式恒速率变向平面研磨机。利用研磨机,通过大量研磨实验,探索出了研磨效率高、表面质量好的研磨方案,取得了很好的研磨效果。