双面研磨机,双面抛光机,平面研磨机

13B双面研磨抛光机

简述:


    产品简介 主要用途: 本机主要适用于硅片、石英晶片、蓝宝石、铌酸锂、光学晶体、玻璃、陶瓷片等薄脆金属或非金属的双面研磨或抛光。 产

产品简介 主要用途: 本机主要适用于硅片、石英晶片、蓝宝石、铌酸锂、光学晶体、玻璃、陶瓷片等薄脆金属或非金属的双面研磨或抛光。

产品优点:

1、采用交流变频电机驱动,软启动、软停止,平稳可靠。

2、气缸斜面升降齿圈、非常平稳,有效利用了齿圈和太阳轮。

3、传动轴大尺寸设计,增强了轴的钢性,从而消除因刚性不足而造成的抖动。

技术参数:

1、上盘尺寸(MM): φ968×φ391×40mm  下盘尺寸(MM): φ968×φ391×35mm 

2、理想研磨直径(MM):φ270mm 

3、游轮参数: DP12,Z=153.

4、游轮数量:6个 

5、下研磨盘转速(rpm): 0~60rpm 

6、上盘提升气缸缸径:φ125mm

7、上盘提升气缸行程:450mm

8、齿圈抬升行程:25mm

9、安全装置进退行程: 30mm

10、主电机:3相 11kw 1450rpm 

11、抛光圈数设定范围:0-9999s

12、气源压力:0.5-0.6Mpa

13、工作压力:300kg

14、装机容量:约12KVA

15、设备外形尺寸(MM):1698×1155×2547mm 

16、重量(KG):~2500kg


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