双面研磨机,双面抛光机,平面研磨机

4B双面研磨机

简述:


    产品简介 主要用途: 本机主要适用于石英晶片、光学晶体、玻璃等薄脆金属或非金属材料的双面研磨,特别适用于高频晶片的双面研磨或抛光。

产品简介 主要用途: 本机主要适用于石英晶片、光学晶体、玻璃等薄脆金属或非金属材料的双面研磨,特别适用于高频晶片的双面研磨或抛光。 

产品规格 

1、研磨盘直径(MM):φ394×φ245×16

2、理想研磨直径(MM):φ75

3、加工件平面平行度:0.1U(φ10)

4、游轮参数:公制M=2,Z=50

5、游轮数量:9个

6、研磨厚度:0.035mm(φ10)

7、主机功率:750W(Dc)

8、下研磨盘转速(rpm):0~60

9、砂泵功率:90W

10、流砂形式:循环或点滴

11、设备外形尺寸(MM):700×1000×1700

12、重量(KGS):630


产品优点 

1、采用直流电机驱动,软启动、软停止,平稳可靠,冲击小。

2、油压升降齿圈,非常平稳,太阳轮下有垫片可调整位置,有效利用齿圈和太阳轮。

3、上盘设置了缓降,有效防止了薄脆工件的破碎。

4、通过使用电子预置计数器,研磨的圈数、要求可准确控制。

5、可以采用修盘方式修整研磨盘。

6、可与ALC(频率监控仪)连接。


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