双面研磨机,双面抛光机,平面研磨机
产品简介 主要用途: 本机主要适用于硅片、石英晶片、蓝宝石、铌酸锂、光学晶体、玻璃、陶瓷片等薄脆金属或非金属的双面研磨或抛光。
产品规格
1、研磨盘直径(MM):φ640×φ235×28
2、理想研磨直径(MM):φ200
3、加工件平面平行度:0.2U(φ10)
4、游轮参数:英制DP12,Z=108
5、游轮数量:5个
6、研磨厚度:0.12mm(φ10)
7、主机功率:4KW(AC)(变频)
8、下研磨盘转速(rpm):0~60
9、砂泵功率:120W
10、流砂形式:循环或点滴
11、设备外形尺寸(MM):1100×1510×216012、重量(KGS):2100
产品优点
1、采用交流滑差电机驱动,软启动、软停止。
2、气压升降齿圈,平稳可靠,有效利用了齿圈。
3、上盘单独设置了缓降气缸,不但有效防止了薄脆工件的破碎,而且还可独立进行压力控制。4、通过使用电子预置计数器,研磨的圈数、要求可准确控制。
5、可以采用修盘方式修整研磨盘。
6、根据用户要求,可以置与ALC(频率监控仪)连接。
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