双面研磨机,双面抛光机,平面研磨机
主要用途: 本机主要适用于硅片、石英晶片、蓝宝石、铌酸锂、光学晶体、玻璃、陶瓷片等薄脆金属或非金属的双面研磨或抛光。
产品规格
1、研磨盘直径(MM):φ622×φ218×25
2、理想研磨直径(MM):φ205
3、加工件平面平行度:0.15U(φ10)
4、游轮参数:英制DP12,Z=108
5、游轮数量:5个
6、研磨厚度:0.1mm(φ10)
7、主机功率:4KW(研磨)(变频)5.5KW(抛光)(变频)
8、下研磨盘转速(rpm):0~60
9、砂泵功率:120W
10、流砂形式:循环或点滴
11、设备外形尺寸(MM):1000×1350×2200
12、重量(KGS):~2200
产品优点
1、采用交流变频电机驱动,软启动、软停止,平稳可靠。
2、油压升降齿圈、非常平稳,太阳轮下有垫片可调整位置,有效利用了齿圈和太阳轮。
3、上盘单独设置了缓降气缸,不但有效防止了薄脆工件的破碎,而且还可独立进行压力控制。4、通过使用电子预置计数器,研磨的圈数、要求可准确控制。
5、可以采用修盘方式修整研磨盘。
6、可与ALC(频率监控仪)连接。
7、该机器分轻压、自重型YJ2M9B-5L(II)和轻压、自重、加压型YJ2M9B-5L(III)两种压力控制形式,订货时须注明机型。
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